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RIE反應離子刻蝕機
CIF推出RIE反應離子刻蝕機，采用RIE反應離子誘導激發(fā)方式，實現對材料表面各向異性的微結構刻蝕。特別適合于大學，科研院所、微電子、半導體企業(yè)實驗室進行介質刻.....

產品型號：RIE200/plus更新日期：2024-03-18

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